• head_banner_01
  • head_banner_01

Obxectivo de tungsteno

Descrición curta:

Nome do produto: obxectivo de pulverización de tungsteno (W).

Grao: W1

Pureza dispoñible (%): 99,5%,99,8%,99,9%,99,95%,99,99%

Forma: placa, redonda, rotativa, tubo/tubo

Especificación: segundo as demandas dos clientes

Estándar: ASTM B760-07,GB/T 3875-06

Densidade: ≥19,3 g/cm3

Punto de fusión: 3410 °C

Volume atómico: 9,53 cm3/mol

Coeficiente de resistencia de temperatura: 0,00482 I/℃


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Parámetros do produto

Nome do produto Obxectivo de pulverización de tungsteno (W).
Grao W1
Pureza dispoñible (%) 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Forma: Placa, redonda, rotativa, tubo/tubo
Especificación Como demandan os clientes
Estándar ASTM B760-07,GB/T 3875-06
Densidade ≥19,3 g/cm3
Punto de fusión 3410 °C
Volume atómico 9,53 cm3/mol
Coeficiente de resistencia á temperatura 0,00482 I/℃
Calor de sublimación 847,8 kJ/mol (25 ℃)
Calor latente de fusión 40,13±6,67 kJ/mol
Estado Obxectivo de volframio planar, obxectivo de volframio rotativo, obxectivo de volframio redondo
estado superficial Lavado polaco ou alcalino
Mano de obra Tacho de volframio (materia prima) - Proba - Laminación en quente - Nivelación e recocido - Lavado con álcalis - Polaco - Proba - Embalaxe

O obxectivo de tungsteno pulverizado e sinterizado ten as características dunha densidade do 99% ou superior, o diámetro medio da textura transparente é de 100um ou menos, o contido de osíxeno é de 20 ppm ou menos e a forza de deflexión é de aproximadamente 500Mpa;mellora a produción de po metálico sen procesar Para mellorar a capacidade de sinterización, o custo do obxectivo de volframio pódese estabilizar a un prezo baixo.O obxectivo de tungsteno sinterizado ten unha alta densidade, ten un marco transparente de alto nivel que non se pode conseguir polo método tradicional de prensado e sinterización e mellora significativamente o ángulo de deflexión, polo que a materia particulada redúcese significativamente.

Vantaxe

(1) Superficie lisa sen poros, arañazos e outras imperfeccións

(2) Borde de moenda ou torneado, sen marcas de corte

(3) Lerel inmellorable de pureza material

(4) Alta ductilidade

(5) Microtrutura homoxénea

(6) Marcado con láser para o seu artigo especial con nome, marca, tamaño de pureza, etc

(7) Cada peza de obxectivos de pulverización catódica do elemento e número de materiais en po, os traballadores de mestura, o tempo de outgas e o tempo de HIP, a persoa de mecanizado e os detalles de embalaxe están feitos nós mesmos.

Todos estes pasos poden prometerche unha vez que se crea un novo obxectivo ou método de pulverización catódica, podería copiarse e manterse para soportar produtos de calidade estables.

Outra vantaxe

Materiais de alta calidade

(1) 100 % de densidade = 19,35 g/cm³

(2) Estabilidade dimensional

(3) Propiedades mecánicas melloradas

(4) Distribución uniforme do tamaño dos grans

(5) Granos pequenos

Apalache

O material obxectivo de tungsteno úsase principalmente na industria aeroespacial, fundición de terras raras, fonte de luz eléctrica, equipos químicos, equipos médicos, maquinaria metalúrxica, equipos de fundición, petróleo e outros campos.


  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Escribe aquí a túa mensaxe e envíanolo

    Produtos relacionados

    • Obxectivo de tantalio

      Obxectivo de tantalio

      Parámetros do produto Nome do produto: obxectivo de tántalo de alta pureza obxectivo de tántalo puro Material Pureza de tántalo 99,95 % min ou 99,99 % min Cor Un metal prateado brillante que é moi resistente á corrosión.Outro nome Ta target Estándar ASTM B 708 Tamaño Diámetro > 10 mm * espesor > 0,1 mm Forma Planar MOQ 5pcs Prazo de entrega 7 días Máquinas de recubrimento por pulverización catódica usadas Táboa 1: Composición química ...

    • Obxectivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza 99,8% de grao 7, obxectivo de aleación de ti para provedor de fábrica de revestimentos

      Sputter de alta pureza 99,8% titanio grado 7...

      Parámetros do produto Nome do produto Obxectivo de titanio para máquina de revestimento de pvd Titanio de grao (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Obxectivo de aliaxe: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr, etc. Orixe cidade de Baoji Provincia de Shaanxi China Contido de titanio ≥99,5 (% ) Contido de impurezas <0,02 (%) Densidade 4,51 ou 4,50 g/cm3 Norma ASTM B381;ASTM F67, ASTM F136 Tamaño 1. Obxectivo redondo: Ø30--2000 mm, espesor 3,0 mm--300 mm;2. Obxectivo da placa: Lonxitude: 200-500 mm Ancho: 100-230 mm Thi...

    • Obxectivo de niobio

      Obxectivo de niobio

      Parámetros do produto Elemento de especificación ASTM B393 9995 obxectivo de niobio pulido puro para a industria Estándar ASTM B393 Densidade 8,57 g/cm3 Pureza ≥99,95 % Tamaño segundo debuxos do cliente Inspección Probas de composición química, probas mecánicas, inspección ultrasónica, detección de tamaño R042040, R04200, R042010 , R04261 Pulido de superficies, esmerilado Técnica sinterizado, laminado, forxado Característica Resistencia a altas temperaturas...

    • Forma redonda de alta pureza 99,95% Mo material 3N5 Molibdeno obxectivo de pulverización catódica para revestimento e decoración de vidro

      Forma redonda de alta pureza 99,95% Mo material 3N5 ...

      Parámetros do produto Marca HSG Metal Número de modelo HSG-moly target Grado MO1 Punto de fusión (℃) 2617 Procesamento Sinterización/Forma forjada Forma especial Partes Material Molibdeno puro Composición química Mo:> =99,95% Certificado ISO9001:2015 Estándar ASTM B386 Superficie brillante e sólida Densidade superficial 10,28 g/cm3 Cor Metálico Brillo Pureza Mo:> = 99,95% Aplicación Película de revestimento PVD na industria do vidro, pl...