• head_banner_01
  • head_banner_01

Obxectivo de tantalio

Breve descrición:

Material: Tántalo

Pureza: 99,95 % min ou 99,99 % min

Cor: Metal brillante e prateado moi resistente á corrosión.

Outro nome: Ta target

Norma: ASTM B 708

Tamaño: diámetro > 10 mm * grosor > 0,1 mm

Forma: Planar

MOQ: 5 unidades

Prazo de entrega: 7 días


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Parámetros do produto

Nome do produto: obxectivo de tantalio de alta pureza obxectivo de tantalio puro
Material Tántalo
Pureza 99,95%min ou 99,99%min
Cor Un metal brillante e prateado moi resistente á corrosión.
Outro nome Ta obxectivo
Estándar ASTM B 708
Tamaño Diámetro > 10 mm * espesor > 0,1 mm
Forma Planar
MOQ 5 unidades
Prazo de entrega 7 días
Usado Máquinas de revestimento por pulverización

Táboa 1: Composición química

Química (%)
Denominación Compoñente xefe Máximo de impurezas
Ta Nb Fe Si Ni W Mo Ti Nb O C H N
Ta1 Resto   0,004 0,003 0,002 0,004 0,006 0,002 0,03 0,015 0,004 0,0015 0,002
Ta2 Resto   0,01 0,01 0,005 0,02 0,02 0,005 0,08 0,02 0,01 0,0015 0,01

Táboa 2: Requisitos mecánicos (condición recocida)

Grao e tamaño

Recocido

Resistencia á tracciónmín, psi (MPa)

Límite de fluencia mín, psi (MPa) (2%)

Alongamento mín., % (longitud de calibre de 1 polgada)

Folla, folla. e placa (RO5200, RO5400) Espesor <0,060" (1,524 mm)Espesor ≥0,060" (1,524 mm)

30000 (207)

20000 (138)

20

25000 (172)

15000 (103)

30

Ta-10W (RO5255)Folla, folla. e taboleiro

70000 (482)

60000 (414)

15

70000 (482)

55000 (379)

20

Ta-2,5 W (RO5252)Espesor <0,125" (3,175 mm)Espesor ≥0,125" (3,175 mm)

40000 (276)

30000 (207)

20

40000 (276)

22000 (152)

25

Ta-40Nb (RO5240)Espesor <0,060" (1,524 mm)

40000 (276)

20000 (138)

25

Espesor> 0,060 "(1,524 mm)

35000 (241)

15000 (103)

25

Tamaño e pureza

Diámetro: diámetro (50 ~ 400) mm

Espesor: (3~28 mm)

Grao: RO5200,RO 5400, RO5252(Ta-2.5W), RO5255(Ta-10W)

Pureza: >=99,95%, >=99,99%

A nosa vantaxe

Recristalización: 95% mínimo Tamaño de grano: mínimo 40μm Rugosidade da superficie: Ra 0,4 máx Planitud: 0,1 mm ou 0,10% máx. Tolerancia: tolerancia de diámetro +/- 0,254

Aplicación

O obxectivo de tantalio, como material de electrodo e material de enxeñería de superficies, foi amplamente utilizado na industria de revestimentos de pantallas de cristal líquido (LCD), corrosión resistente á calor e alta condutividade.


  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Escribe aquí a túa mensaxe e envíanolo

    Produtos relacionados

    • Obxectivo de tungsteno

      Obxectivo de tungsteno

      Parámetros do produto Nome do produto Obxectivo de pulverización catódica de tungsteno (W) Grao W1 Pureza dispoñible (%) 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 % Forma: placa, redonda, rotativa, tubo/tubo Especificación Tal e como demandan os clientes Estándar ASTM B760- 07,GB/T 3875-06 Densidade ≥19,3 g/cm3 Punto de fusión 3410 °C Volume atómico 9,53 cm3/mol Coeficiente de resistencia á temperatura 0,00482 I/℃ Calor de sublimación 847,8 kJ/mol (calor de fusión 25℃ ± 640 ℃ ± 640 °C) kJ/mol...

    • Obxectivo de niobio

      Obxectivo de niobio

      Parámetros do produto Elemento de especificación ASTM B393 9995 obxectivo de niobio pulido puro para a industria Estándar ASTM B393 Densidade 8,57 g/cm3 Pureza ≥99,95 % Tamaño segundo debuxos do cliente Inspección Probas de composición química, probas mecánicas, inspección ultrasónica, detección de tamaño R042040, R04200, R042010 , R04261 Pulido de superficies, esmerilado Técnica sinterizado, laminado, forxado Característica Resistencia a altas temperaturas...

    • Forma redonda de alta pureza 99,95% Mo material 3N5 Molibdeno obxectivo de pulverización catódica para revestimento e decoración de vidro

      Forma redonda de alta pureza 99,95% Mo material 3N5 ...

      Parámetros do produto Marca HSG Metal Número de modelo HSG-moly target Grado MO1 Punto de fusión (℃) 2617 Procesamento Sinterización/Forma forjada Forma especial Partes Material Molibdeno puro Composición química Mo:> =99,95% Certificado ISO9001:2015 Estándar ASTM B386 Superficie brillante e chan Densidade superficial 10,28 g/cm3 Cor Metálico Brillo Pureza Mo:> = 99,95% Aplicación Película de revestimento PVD na industria do vidro, pl...

    • Obxectivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza 99,8% de grao 7 rondas obxectivo de aliaxe ti para provedor de fábrica de revestimentos

      Sputter de alta pureza 99,8% titanio grado 7...

      Parámetros do produto Nome do produto Obxectivo de titanio para máquina de revestimento de pvd Titanio de grao (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Obxectivo de aliaxe: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr, etc. Orixe cidade de Baoji Provincia de Shaanxi China Contido de titanio ≥99,5 (% ) Contido de impurezas <0,02 (%) Densidade 4,51 ou 4,50 g/cm3 Norma ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 Tamaño 1. Obxectivo redondo: Ø30--2000 mm, espesor 3,0 mm--300 mm; 2. Obxectivo da placa: Lonxitude: 200-500 mm Ancho: 100-230 mm Thi...