• head_banner_01
  • head_banner_01

Obxectivo de pulverización catódica de molibdeno 3N5 de material de forma redonda de alta pureza ao 99,95 % de Mo para revestimento e decoración de vidro

Descrición curta:

Nome da marca: HSG Metal

Número de modelo: obxectivo de HSG-molibdeno

Grao: MO1

Punto de fusión (℃): 2617

Procesamento: Sinterización/forxado

Forma: Pezas de forma especial

Material: Molibdeno puro

Composición química: Mo: > = 99,95%

Certificado: ISO9001:2015

Norma: ASTM B386


Detalle do produto

Etiquetas do produto

Parámetros do produto

Nome da marca Metal HSG
Número de modelo Obxectivo de HSG-molibdeno
Grao MO1
Punto de fusión (℃) 2617
Procesamento Sinterización/ Forxado
Forma Pezas de forma especial
Material Molibdeno puro
Composición química Mo:> =99,95%
Certificado ISO9001:2015
Estándar ASTM B386
Superficie Superficie brillante e chan
Densidade 10,28 g/cm³
Cor Brillo metálico
Pureza Mo:> =99,95%
Aplicación Película de revestimento PVD na industria do vidro, galvanoplastia iónica
Vantaxe Resistencia a altas temperaturas, alta pureza, mellor resistencia á corrosión

A dispoñibilidade estándar descríbese a continuación. Hai outros tamaños e tolerancias dispoñibles.

Espesor

Anchura máxima

Lonxitude máxima

.090"

24"

110"

.125"

24"

80"

.250"

24"

40"

.500"

24"

24"

>.500"

24"

 

Para un grosor maior, os produtos en placa normalmente limítanse a un peso máximo de 40 quilogramos por peza. Tolerancia de grosor estándar para placas de molibdeno

Espesor

De 0,25" a 6"

De 6" a 12"

De 12" a 24"

.090"

± 0,005"

± 0,005"

± 0,005"

> .125

± 4%

± 4%

± 4%

Tolerancia de ancho estándar da placa de molibdeno

Espesor

De 0,25" a 6"

De 6" a 12"

De 12" a 24"

.090"

± 0,031"

± 0,031"

± 0,031"

> .125

± 0,062"

± 062"

± 062"

Nota

Folla (0,13 mm ≤ grosor ≤ 4,75 mm)

Placa (grosor >4,75 mm)

Outras dimensións pódense negociar.

O obxectivo de molibdeno é un material industrial amplamente utilizado en vidro condutor, STN/TN/TFT-LCD, vidro óptico, revestimento iónico e outras industrias. É axeitado para todos os sistemas de revestimento plano e de revestimento por centrifugación.

O branco de molibdeno ten unha densidade de 10,2 g/cm3. O punto de fusión é de 2610 °C. O punto de ebulición é de 5560 °C.

Pureza do obxectivo de molibdeno: 99,9%, 99,99%

Especificacións: diana redonda, diana de placa, diana rotatoria

Característica

Excelente condutividade da electricidade;
Resistencia a altas temperaturas;
Alto punto de fusión, alta resistencia á oxidación e á erosión.

Aplicación

Amplamente utilizado como eléctrodos ou material de cableado, na fabricación de circuítos integrados de semicondutores, pantallas planas e paneis solares e outros campos. Ao mesmo tempo, temos a produción de obxectivos de tungsteno, tántalo, niobio e cobre, as dimensións específicas da produción de acordo cos requisitos do cliente.


  • Anterior:
  • Seguinte:

  • Escribe aquí a túa mensaxe e envíanosla

    Produtos relacionados

    • Obxectivo de tántalo

      Obxectivo de tántalo

      Parámetros do produto Nome do produto: obxectivo de tántalo de alta pureza obxectivo de tántalo puro Material Tántalo Pureza 99,95 % mín. ou 99,99 % mín. Cor Un metal brillante e prateado moi resistente á corrosión. Outro nome Obxectivo de tántalo Estándar ASTM B 708 Tamaño Diámetro >10 mm * grosor >0,1 mm Forma Planar MOQ 5 unidades Prazo de entrega 7 días Máquinas de revestimento por pulverización catódica usadas Táboa 1: Composición química...

    • Obxectivo de tungsteno

      Obxectivo de tungsteno

      Parámetros do produto Nome do produto Obxectivo de pulverización catódica de tungsteno (W) Grao W1 Pureza dispoñible (%) 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 % Forma: Placa, redonda, rotatoria, tubo/tubo Especificación Segundo as esixencias dos clientes Estándar ASTM B760-07, GB/T 3875-06 Densidade ≥19,3 g/cm3 Punto de fusión 3410 °C Volume atómico 9,53 cm3/mol Coeficiente de resistencia á temperatura 0,00482 I/℃ Calor de sublimación 847,8 kJ/mol (25 ℃) Calor latente de fusión 40,13 ± 6,67 kJ/mol...

    • Obxectivo de niobio

      Obxectivo de niobio

      Parámetros do produto Especificación Artigo Obxectivo de niobio pulido puro ASTM B393 9995 para a industria Estándar ASTM B393 Densidade 8,57 g/cm3 Pureza ≥99,95 % Tamaño segundo os debuxos do cliente Inspección Probas de composición química, probas mecánicas, inspección por ultrasóns, detección de tamaño de aspecto Grao R04200, R04210, R04251, R04261 Pulido de superficies, moenda Técnica sinterizado, laminado, forxado Característica Resistencia a altas temperaturas...

    • Obxectivos de pulverización catódica de titanio de alta pureza ao 99,8 % de grao 7 de titanio, obxectivo de aliaxe de titanio para revestimento, provedor de fábrica

      Pulverización catódica de 7 roldas de titanio puro 99,8%...

      Parámetros do produto Nome do produto Obxectivo de titanio para máquina de revestimento PVD Grao Titanio (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12) Obxectivo de aliaxe: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr etc. Orixe Cidade de Baoji Provincia de Shaanxi China Contido de titanio ≥99,5 (%) Contido de impurezas <0,02 (%) Densidade 4,51 ou 4,50 g/cm3 Estándar ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136 Tamaño 1. Obxectivo redondo: Ø30--2000 mm, grosor 3,0 mm--300 mm; 2. Obxectivo da placa: Lonxitude: 200-500 mm Anchura: 100-230 mm Espesor...